2025年夏天,一份英伟达供应链名单,在半导体行业引起轩然大波。 在清一色欧美日老牌厂商中,低调出现了一个陌生的中国名字:英诺赛科。 从美国宇航局首席科学家,到中国氮化镓功率半导体全球第一的创业者,英诺赛科创始人骆薇薇用八年时间,完成了从0到1的突破和逆袭。 截至2025年9月23日收盘,英诺赛科市值已高达875亿港元,成为了全球氮化镓功率半导体领域的龙头。 而这一切,始于2015年那个不被看好的决定。 一 “跳入火坑” 2015年,当骆薇薇决定回国创业时,身边几乎没有人看好她的选择。 有人甚至直言不讳地告诉她:回国创业是“火坑”,不要往里跳。最终,只有一名员工愿意追随她回国。 骆薇薇毕业于新西兰梅西大学应用数学专业,拥有博士学位。在美国宇航局(NASA)工作15年后,她先后创办了两家以新材料为核心业务的高科技公司。 凭借对行业的判断,骆薇薇在2015年带着第三代半导体氮化镓的梦想回到了中国。
彼时,全球第三代半导体发展仍处于早期阶段,氮化镓还没有大规模商业化应用。更让业内惊讶的是,骆薇薇选择了一条与众不同的技术路径----当大多数企业还在采用6英寸或4英寸工艺时,她毅然决定直接攻关8英寸硅基氮化镓晶圆技术。
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