华人顶尖学者加速离美回流
世界日报 ｜ 2026-09-21

AI摘要

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中美科技竞争升温下，更多华人顶尖学者与科研人才离开美国转赴中国，背后既有中国科研与产业机会增加，也受美国政策不确定性影响。

中美科技竞争持续升温之际，愈来愈多曾在美国学习或工作的华人科研人才转赴中国任职，包括曾在晶片业工作超过16年的半导体品质控制专家陈晔。最新研究显示，这股回流趋势自2010年代以来逐渐加速，背后既有中国科研投入增加、前沿产业快速发展等吸引力，也与美国科研经费、签证政策及对华合作审查的不确定性有关。

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据报导，2026年至今，已有十多名较受瞩目的华人科学家离开美国，转赴中国大学及研究机构任职。（图／ChatGPT生成）

根据Inside Higher Ed与泰晤士高等教育报导，2026年至今，已有十多名较受瞩目的华人科学家离开美国的重要研究或产业职位，转赴中国大学及研究机构任职。

最新案例之一是半导体品质控制专家陈晔。他在美国晶片业工作超过16年，近期受聘为浙江大学集成电路学院特聘教授，研究方向包括晶片制造电子设计自动化、检测、量测及良率提升等。

一份2026年7月发布的研究论文，分析2003年至2022年间120万学者的科研产出。研究将「回流学者」定义为学术机构署名由海外转为中国的华人科学家。结果显示，符合这一定义的回流者从2004年的31人，增至2022年的1409人；截至2022年，研究共辨识出9963名回流者，其中5504人此前在美国研究机构任职。